一种基于光流控的光束扫描型动态光学微加工平台

摘要：

本实用新型公开了一基于光流控的光束扫描型动态光学微加工平台，包括光源，在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、光束扫描器以及光流体模块。本实用新型的一种基于光流控的光束扫描型动态光学微加工平台，具有过程步骤少工艺简单，制作装置简单成本低，可以加工不同形状微纳器件，并能够进行不同微纳器件动态实时调整，便于微纳器件进行后续自组装处理等特点。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420316129.9

申请日期：2014-06-09

公开/公告号：CN204028561U

公开/公告日：2014-12-17

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:高秀敏

发明/设计人:南学芳;郁敏;杨杰;高秀敏

主申请人地址:200433 上海市杨浦区国顺路80弄5号202室

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种基于光流控的光束扫描型动态光学微加工平台，包括光源，其特征在于，在所述光源出射光束行进方向上依次设置有光束整形器件、光束扫描器以及光流体模块，所述的光流体模块为两端开口结构，包括流道边界、位于所述光流体模块两端的流体入口和流体出口、位于流道边界内的流体光刻胶。