一种曝光机

摘要：

本实用新型实施例公开了一种曝光机，涉及显示技术领域，能够避免感光材料挥发出的物质沉积在平面镜上。该曝光机，包括平面镜以及设置于所述平面镜下方的隔离结构，所述隔离结构上与掩膜板上的图案相应的位置处透光。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420270549.8

申请日期：2014-05-26

公开/公告号：CN203849555U

公开/公告日：2014-09-24

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:北京京东方显示技术有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:吴洪江;袁剑峰

主申请人地址:100176 北京市大兴区北京经济技术开发区经海一路118号

专利代理机构:北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:申健

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种曝光机，包括平面镜，其特征在于，还包括：设置于所述平面镜下方的隔离结构，所述隔离结构上与掩膜板上的图案相应的位置处透光。