一种晶圆烘烤盘

摘要：

本实用新型提供一种晶圆烘烤盘，所述晶圆烘烤盘至少包括：烘烤盘主体、位于所述烘烤盘主体上的晶圆以及若干支撑所述晶圆的支柱；所述烘烤盘主体面积大于所述晶圆面积；所述烘烤盘主体上表面设有若干均匀分布的点热源；所述烘烤盘主体上表面划分为至少四个区域；每个区域包含有若干点热源；所述烘烤盘主体内置有驱动所述各个区域的点热源分别至不同温度的电路。采用本实用新型的所述烘烤盘加热晶圆表面的光阻可以在同一片晶圆的不同区域得到不同温度下的工艺参数，提高对后续工艺条件的筛选效率，避免了因晶圆的分批实验而耗时耗力，并且节约实验成本。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420268744.7

申请日期：2014-05-23

公开/公告号：CN203849556U

公开/公告日：2014-09-24

主分类号：G03F7/38(2006.01)I

申请/专利权人:中芯国际集成电路制造（北京）有限公司

发明/设计人:李天慧;平延磊

主申请人地址:100176 北京市大兴区大兴区经济技术开发区（亦庄）文昌大道18号

专利代理机构:上海光华专利事务所 31219

代理人:李仪萍

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种晶圆烘烤盘，其特征在于，所述晶圆烘烤盘至少包括：烘烤盘主体、位于所述烘烤盘主体上的晶圆以及若干支撑所述晶圆的支柱；所述烘烤盘主体面积大于所述晶圆面积；所述烘烤盘主体上表面设有若干均匀分布的点热源；所述烘烤盘主体上表面划分为至少四个区域；每个区域包含有若干点热源；所述烘烤盘主体内置有驱动所述各个区域的点热源分别至不同温度的电路。