一种掩模板

摘要：

本实用新型涉及一种掩模板，掩模板上设有预设图形，在所述预设图形相对的两侧分别设有第一测试图形，所述第一测试图形用于确定所述掩模板在移动过程中产生的位置偏移的大小。本实用新型提供的掩模板，在其沿由第一测试图形所在的预设图形的第一侧至与第一册相对的第二侧的方向移动标准距离时，可以通过检测移动后的位于预设图形第一侧的第一测试图形与移动前的位于预设图形第二侧的第一测试图形之间的相对位置关系，确定掩模板在其移动过程中是否产生位置偏移，并在产生位置偏移时，确定位置偏移的大小，从而可以对掩模板的位置进行校正，进而在玻璃基板上获得准确的特定图形。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420261930.8

申请日期：2014-05-21

公开/公告号：CN203965796U

公开/公告日：2014-11-26

主分类号：G03F1/44(2012.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%北京京东方光电科技有限公司

发明/设计人:郭建

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人:彭瑞欣%陈源

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩模板，其特征在于，所述掩模板上设有预设图形，在所述预设图形相对的两侧分别设有第一测试图形，所述第一测试图形用于确定所述掩模板在移动过程中产生的位置偏移的大小。