一种双面曝光装置

摘要：

本实用新型公开了一种双面曝光装置，它包括曝光箱（2）和装载箱（3），曝光箱（2）和装载箱（3）上均设置有用于安装上层装载框架（1）的上层水平导轨和用于安装下层装载框架（19）的下层水平导轨，上层装载框架（1）和下层装载框架（19）结构相同，均包括上框架（17）和下框架（18），上框架（17）的底面上设置有上透光板（8），下框架（18）的凹槽（9）的底面上设置有下透光板（10）。本实用新型的有益效果是：同时对两个表面进行曝光，提高了曝光效率，装载工作方便、容易进行，上层装载框架和下层装载框架能够交替进行曝光，从而节省了取、装料操作对曝光效率的影响，同样提高了效率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420218773.2

申请日期：2014-04-30

公开/公告号：CN203930327U

公开/公告日：2014-11-05

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:遂宁市维海电子科技有限公司

发明/设计人:刘维军;郭宝贵

主申请人地址:629000 四川省遂宁市遂宁市创新工业园区明星大道28号

专利代理机构:成都金英专利代理事务所(普通合伙) 51218

代理人:袁英

国别省市代码:四川;51

权利要求：

一种双面曝光装置，其特征在于：它包括上层装载框架（1）、下层装载框架（19）、以及依次连接为一体的曝光箱（2）和装载箱（3），曝光箱（2）和装载箱（3）上均设置有用于安装上层装载框架（1）的上层水平导轨，曝光箱（2）和装载箱（3）上均设置有用于安装下层装载框架（19）的下层水平导轨，曝光箱（2）位于上层水平导轨的上侧和下层水平导轨的下侧均设置有曝光光源（6），所述的上层装载框架（1）和下层装载框架（19）结构相同，上层装载框架（1）和下层装载框架（19）均包括上框架（17）和下框架（18），上框架（17）和下框架（18）通过设置于后侧面上的合页（7）连接为一体，上框架（17）的底面上设置有上透光板（8），下框架（18）的顶面上设置有容置上框架（17）的凹槽（9），该凹槽（9）的底面上设置有下透光板（10），下框架（18）内部设置有抽真空通道，下框架（18）位于上透光板（8）和下透光板（10）之间的部分上设置有抽真空气孔（11），下框架（18）上还设置有用于连接抽真空管路的抽真空接头（12），抽真空接头（12）通过抽真空通道与抽真空气孔（11）连通，所述的下框架（18）的左右两侧均设置有水平凸棱（13），上层装载框架（1）的水平凸棱（13）滑动安装于曝光箱（2）和装载箱（3）的上层水平导轨内，下层装载框架（19）的水平凸棱（13）滑动安装于曝光箱（2）和装载箱（3）的上层水平导轨内。