一种掩模板

摘要：

本实用新型公开了一种掩模板，用以提供一种新型结构的掩模板，避免掩模板上因静电释放而破坏掩模板上掩模图形的问题。所述掩模板包括：衬底，以及位于所述衬底上的透光区域和遮光区域，所述遮光区域设置有至少两个分别具有设定掩模图形且可导电的遮光层，还包括：一个或多个分别用于电连接至少两个所述遮光层的连接线，所述连接线的宽度为0.3～1.5μm。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420174118.1

申请日期：2014-04-11

公开/公告号：CN203759422U

公开/公告日：2014-08-06

主分类号：G03F1/40(2012.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%北京京东方显示技术有限公司

发明/设计人:金基用;孙增标;王涛;许朝钦

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:黄志华

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩模板，其特征在于，包括：衬底和所述衬底上的透光区域和遮光区域，所述遮光区域设置有至少两个分别具有设定掩模图形且可导电的遮光层，还包括：一个或多个分别用于电连接至少两个所述遮光层的连接线，所述连接线的宽度为0.3～1.5μm。