一种减压干燥装置及阵列光刻工艺设备

摘要：

本实用新型提供一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：干燥室；用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；所述减压干燥装置还包括：用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。本实用新型还提供一种阵列光刻工艺设备。本实用新型的有益效果是：减压干燥的同时进行加热，将减压干燥工艺和前烘工艺同时进行，降低成本、提高生产效率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420156215.8

申请日期：2014-04-01

公开/公告号：CN203799174U

公开/公告日：2014-08-27

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:北京京东方显示技术有限公司%京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:张民;周子卿;王涛;吴磊;陈朋

主申请人地址:100176 北京市经济技术开发区经海一路118号

专利代理机构:北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人:许静%安利霞

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种减压干燥装置，用于光刻工艺中玻璃基板的减压干燥，包括：干燥室；用于承载玻璃基板的承载台，设于所述干燥室内；其特征在于，所述减压干燥装置还包括：用于对玻璃基板进行加热的加热结构，设于所述干燥室内。