偏极化曝光装置

摘要：

本实用新型提供一种偏极化曝光装置是用以对一基板进行曝光并包含一基板承载单元、一温控单元以及一曝光单元。基板承载单元用以承载基板。温控单元控制基板达到一工艺温度。曝光单元提供一偏极化光，并对该基板进行曝光。以此，本实用新型可提高曝光效能并缩短工站时间。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201420065727.3

申请日期：2014-02-14

公开/公告号：CN204009353U

公开/公告日：2014-12-10

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:群创光电股份有限公司

发明/设计人:高克毅;李建兴;纪仁海

主申请人地址:中国台湾新竹科学工业园区

专利代理机构:北京三友知识产权代理有限公司 11127

代理人:贾磊

国别省市代码:台湾;71

权利要求：

一种偏极化曝光装置，用以对一基板进行曝光，其特征在于，所述偏极化曝光装置包含：一基板承载单元，所述基板设置于所述基板承载单元上；一温控单元，与所述基板对应设置并控制所述基板达到一工艺温度；以及一曝光单元，与所述基板对应设置并提供一偏极化光，并对所述基板进行曝光。