一种光刻机的掩膜版降温装置
本实用新型涉及降温装置技术领域，公开了一种光刻机的掩膜版降温装置，包括箱体，设于箱体一侧的进风口，安装于箱体内的工作架，依次设于工作架下端的压缩机、加热器和送风机，和设于工作架一侧的高效过滤器，设于工作架内由上至下的掩膜版、镜头和硅片工作台，以及安装于箱体上与掩膜版对应的汞灯，所述压缩机位于进风口的一侧，所述送风机位于高效过滤器的一侧，其还包括安装于工作架内用于实时检测掩膜版温度的红外温度测试仪，和与红外温度测试仪连接的用于对掩膜版进行降温的冷却降温装置。本实用新型通过红外温度测试仪和冷却降温装置，可以对掩膜版的局部温度进行实时控制并且降温的时间短、效果好。
实用新型
CN201420000246.4
2014-01-01
CN203745795U
2014-07-30
G03F7/20(2006.01)I
长沙创芯集成电路有限公司
滕飞
410100 湖南省长沙市长沙经开区三一路89号圣力大厦5楼
湖南;43
一种光刻机的掩膜版降温装置，包括箱体（1），设于箱体（1）一侧的进风口（13），安装于箱体（1）内的工作架（3），依次设于工作架（3）下端的压缩机（14）、加热器（15）和送风机（16），和设于工作架（3）一侧的高效过滤器（2），设于工作架（3）内由上至下的掩膜版（6）、镜头（10）和硅片工作台（12），以及安装于箱体（1）上与掩膜版（6）对应的汞灯（4），所述压缩机（14）位于进风口（13）的一侧，所述送风机（16）位于高效过滤器（2）的一侧，其特征在于：还包括安装于工作架（3）内用于实时检测掩膜版（6）温度的红外温度测试仪（5），和与红外温度测试仪（5）连接的用于对掩膜版（6）进行降温的冷却降温装置。