一种光刻机用调焦调平系统及其调焦调平方法

摘要：

本发明公开了一种光刻机用调焦调平系统及其调焦调平方法，该系统包括发射部分和接受部分，发射部分包括第一转向反射光学元件，接受部分包括第二转向反射光学元件和探测器，一部分测量光束经过第一转向反射光学元件后以零入射角直接射入第二转向反射光学元件，最终到达探测器，另一部分测量光束经过被测对象反射后射入第二转向反射光学元件，最终到达探测器，两部分测量光束在探测器上分别成像以实现调焦调平系统的自参考功能。本发明通设置第一转向反射光学元件和第二转向反射光学元件，对两部分测量光束的入射角进行调节，使其经过不同的光路成像到探测器上，实现了系统的自参考功能，提高了系统的测量精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410854254.X

申请日期：2014-12-31

公开/公告号：CN105807571A

公开/公告日：2016-07-27

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:唐平玉;王海江;张启天

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光刻机用调焦调平系统，包括发射部分和接受部分，其特征在于，所述发射部分包括第一转向反射光学元件，所述接受部分包括第二转向反射光学元件和探测器，一部分测量光束经过所述第一转向反射光学元件后以零入射角直接射入所述第二转向反射光学元件，最终到达所述探测器，另一部分测量光束经过被测对象反射后射入第二转向反射光学元件，最终到达所述探测器，两部分测量光束在探测器上分别成像以实现调焦调平系统的自参考功能。