一种精密定位平台绝对定位精度的测量及补偿方法

摘要：

本发明公开了一种精密定位平台绝对定位精度的测量及补偿方法，具体做法是将掩膜板放置在已知定位精度很高的光刻设备上，在其上曝光具有规则排列的多个Mark，刻蚀后，利用此掩膜板、CCD成像技术和图像匹配技术测量精度较差的定位平台，并将测量得到的误差补偿给平台控制器，以提高平台的定位精度。本发明利用在掩膜板曝光定位标记进行测量并补偿，比传统的激光干涉仪测量和补偿成本低、易操作；利用图像匹配法进行测量和补偿，测量精度高，误差为1/20像素，即4.65um/22.3/20,约10nm；可以有效补偿并校准定位平台的二维定位精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410425856.3

申请日期：2014-08-26

公开/公告号：CN104199257A

公开/公告日：2014-12-10

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:合肥芯硕半导体有限公司

发明/设计人:李香滨

主申请人地址:230601 安徽省合肥市经开区锦绣大道68号合肥芯硕半导体有限公司

专利代理机构:安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112

代理人:余成俊

国别省市代码:安徽;34

权利要求：

一种精密定位平台绝对定位精度的测量及补偿方法，其特征在于包含以下步骤：1）将掩膜板放置在定位精度较高的直写光刻设备的定位平台上，打开真空吸附，在掩膜板上曝光具有规则排列的定位标记的掩膜板；2）将曝光后的掩膜板刻蚀清洗干净后，放置在需要提高定位平台绝对定位精度的直写光刻设备上，打开真空吸附；3）旋转定位平台的旋转轴，调整定位平台XY运动方向和掩膜板上定位标记的XY方向的一致性；4）利用图像匹配法，依次测量出每个定位标记处定位平台的理论位置和实际位置的XY的差值；5）将以上测量的XY的差值补偿进定位平台控制器，然后再重复步骤1）至步骤4）再次测量，以检查补偿后的效果。