一种掩模板

摘要：

本发明涉及光刻技术领域，公开一种掩模板，包括不透光区域，还包括：第一半透光区域；第二半透光区域；所述第二半透光区域的透光率小于第一半透光区域的透光率。该掩模板可以解决因为光刻胶厚度差异导致的过刻不良的工艺问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410345060.7

申请日期：2014-07-18

公开/公告号：CN104155842A

公开/公告日：2014-11-19

主分类号：G03F1/00(2012.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%北京京东方光电科技有限公司

发明/设计人:王德帅;曲连杰

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291

代理人:黄志华

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种掩模板，包括不透光区域，其特征在于，还包括：第一半透光区域；第二半透光区域；所述第二半透光区域的透光率小于第一半透光区域的透光率。