一种显影装置

摘要：

本发明提供一种显影装置，属于显示技术领域，其可解决现有的大尺寸基板显影工艺中不同位置的显影图形差异的问题。本发明的显影装置能够使由于基板的在显影工艺中能至少进行一次交互倾斜运动，使基板的不同位置得到均匀的显影处理，形成均匀的图形；同时，自由调节交互倾斜运动的角度，可以及时地去除显影残渣，提升显影的速度和质量。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410268561.X

申请日期：2014-06-16

公开/公告号：CN104076622A

公开/公告日：2014-10-01

主分类号：G03F7/30(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%北京京东方显示技术有限公司

发明/设计人:李晓光;汪栋;吴洪江;肖宇

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京天昊联合知识产权代理有限公司 11112

代理人:柴亮%张天舒

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种显影装置，其特征在于，包括：基台和在该基台上设置的升降单元，所述的升降单元上设置有承载单元，所述承载单元上设有输送单元，所述的输送单元用于将待显影的基板输送至预定的显影位置；所述承载单元与所述基板传送方向平行的两侧与所述升降单元连接；在所述显影位置的上方设有显影液喷洒单元，用于将显影液喷洒至基板进行显影；所述升降单元能够使所述基板的与其输送方向平行的两侧中的一侧相对于另一侧至少进行一次交互倾斜运动。