一种显影方法及显影装置

摘要：

本发明提供一种显影方法及显影装置，该方法包括：控制基板相对显影机台向第一方向倾斜第一角度θ₁，控制多个喷嘴在与基板平行的第一平面上，将显影液均匀地喷洒到基板上进行显影；控制基板相对显影机台向第二方向倾斜第二角度θ₂，控制多个喷嘴在与基板平行的第二平面上，将显影液均匀地喷洒到基板上进行显影；控制基板相对显影机台向第三方向倾斜第三角度θ₃，控制多个喷嘴在与基板平行的第三平面上，将显影液均匀地喷洒到基板上进行显影；控制基板相对显影机台向第四方向倾斜第四角度θ₄，控制多个喷嘴在与基板平行的第四平面上，将显影液均匀地喷洒到基板上进行显影。上述方案可提高显影后的光刻图形的线宽均匀性。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410258414.4

申请日期：2014-06-11

公开/公告号：CN104062857A

公开/公告日：2014-09-24

主分类号：G03F7/30(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司%北京京东方显示技术有限公司

发明/设计人:冯贺;吴洪江;王耸;杨同华;董明

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京银龙知识产权代理有限公司 11243

代理人:许静%黄灿

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种显影方法，其特征在于，包括如下步骤：控制基板相对于显影机台向第一方向倾斜第一角度θ₁，使所述基板的第一侧边向上、与所述第一侧边位置相对的第二侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第一平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₁；控制基板相对于显影机台向第二方向倾斜第二角度θ₂，使所述基板的与所述第一侧边相邻的第三侧边向上、与所述第三侧边位置相对的第四侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第二平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₂；控制基板相对于显影机台向第三方向倾斜第三角度θ₃，使所述基板的所述第二侧边向上、与所述第二侧边位置相对的所述第一侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第三平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₃；控制基板相对于显影机台向第四方向倾斜第四角度θ₄，使所述基板的所述第四侧边向上、与所述第四侧边位置相对的所述第三侧边向下，控制设置于所述基板上方的多个喷嘴均匀排列在与所述基板平行的第四平面上，并通过所述多个喷嘴将显影液均匀地喷洒到所述基板上进行显影，显影时间为t₄。