一种光刻胶的去除方法

摘要：

本发明提供了一种光刻胶的去除方法，涉及显示技术领域，解决了现有的光刻胶去除不干净的问题。一种光刻胶的去除方法，所述方法包括：在形成有光刻胶的基板上沉积氧化物薄膜；用紫外光处理所述氧化物薄膜；将所述氧化物薄膜剥离；将所述光刻胶去除。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410206695.9

申请日期：2014-05-15

公开/公告号：CN103969966A

公开/公告日：2014-08-06

主分类号：G03F7/42(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:田慧

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:申健

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种光刻胶的去除方法，其特征在于，包括：在形成有光刻胶的基板上沉积氧化物薄膜；用紫外光处理所述氧化物薄膜；将所述氧化物薄膜剥离；将所述光刻胶去除。