一种用于深紫外光刻照明系统的chirp式复眼匀光单元

摘要：

本发明提供一种用于深紫外光刻照明系统的chirp式复眼匀光单元，包括chirp式复眼、孔径光阑和聚光镜；其中chirp式复眼中第一排复眼的基底为阶梯型结构，第二排复眼的基底为等厚度结构，且第一排复眼上子透镜位于与其对应的第二排复眼上子透镜的物方焦平面处；基于通过chirp式复眼上每一子透镜的光束在掩模面上的照明区域大小相同的限定条件，确定chirp式复眼上各子透镜的口径与曲率半径。本发明在不使用旋转散射元件和光学延迟元件的情况下，可以有效抑制光刻照明系统中的干涉散斑，简化深紫外光刻照明系统。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410160658.9

申请日期：2014-04-21

公开/公告号：CN103926804A

公开/公告日：2014-07-16

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:北京理工大学

发明/设计人:李艳秋;肖雷;魏立冬

主申请人地址:100081 北京市海淀区中关村南大街5号

专利代理机构:北京理工大学专利中心 11120

代理人:仇蕾安%李爱英

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种用于深紫外光刻照明系统的chirp式复眼匀光单元，包括chirp式复眼、孔径光阑和聚光镜；其特征在于，chirp式复眼中第一排复眼的基底为阶梯型结构，第二排复眼的基底为等厚度结构，且第一排复眼上子透镜位于与其对应的第二排复眼上子透镜的物方焦平面处；基于通过chirp式复眼上每一子透镜的光束在掩模面上的照明区域大小相同的限定条件，确定chirp式复眼上各子透镜的口径与曲率半径。