一种半导体集成电路用显影液

摘要：

本发明公开了一种半导体集成电路用显影液，所述显影液包括的组分有有机碱、聚醚型非离子表面活性剂和超纯水。通过上述方式，本发明的半导体集成电路用显影液具有生产成本低、显影性能良好、金属离子含量低、适用范围广等优点，能广泛使用在半导体集成电路制造过程的光刻工艺中，用此显影液显影后显影残渣少、图形光滑、图形边缘清晰整齐、无图形坍塌。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410153319.8

申请日期：2014-04-17

公开/公告号：CN103955120A

公开/公告日：2014-07-30

主分类号：G03F7/32(2006.01)I

申请/专利权人:富士胶片电子材料（苏州）有限公司

发明/设计人:江磊;金旭

主申请人地址:215021 江苏省苏州市苏州工业园区龙潭路206号

专利代理机构:苏州广正知识产权代理有限公司 32234

代理人:徐萍

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种半导体集成电路用显影液，其特征在于，所述显影液包括的组分有有机碱、聚醚型非离子表面活性剂和超纯水。