一种用于半导体集成电路中的显影液
本发明公开了一种用于半导体集成电路中的显影液,所述显影液包括有壬基酚聚氧乙烯醚、四甲基氢氧化铵和超纯水。通过上述方式,本发明的用于半导体集成电路中的显影液具有生产成本低、显影性能良好、金属离子含量低和适用范围广等优点,能广泛使用在半导体集成电路制造过程的光刻工艺中,显影后显影残渣少、图形光滑、图形边缘清晰整齐且无图形坍塌。
发明专利
CN201410153317.9
2014-04-17
CN103955119A
2014-07-30
G03F7/32(2006.01)I
富士胶片电子材料(苏州)有限公司
江磊;金旭
215021 江苏省苏州市苏州工业园区龙潭路206号
苏州广正知识产权代理有限公司 32234
徐萍
江苏;32
一种用于半导体集成电路中的显影液,其特征在于,所述显影液包括有壬基酚聚氧乙烯醚、四甲基氢氧化铵和超纯水。