一种用于高数值孔径投影光刻系统的照明模式产生装置

摘要：

本发明提供一种用于高数值孔径投影光刻系统的照明模式产生装置，包括准分子激光器，扩束准直系统，单排微复眼阵列，光束分布调整单元，傅里叶透镜组和控制系统。其中，光束分布调整单元由两个相互平行的微变形镜阵列和位于其间的耦合镜组组成，微变形镜阵列的每个镜单元由静电驱动可在一维方向连续旋转，使入射于其上的光束有不同的出射角，并通过傅里叶透镜组转化为目标面上不同的光斑位置，从而实现不同照明模式。本发明采用两组一维微变形镜阵列结构，避免制作同时需要高驱动器密度和高空间频率的二维可旋转微变形镜阵列结构，且两个只在一维方向上运动的微变形镜阵列制造加工方面较为简单，更利于实现光斑分布的精确控制。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410131217.6

申请日期：2014-04-02

公开/公告号：CN103869632A

公开/公告日：2014-06-18

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院光电技术研究所

发明/设计人:邢莎莎;林妩媚;邢廷文;杜猛;张海波

主申请人地址:610209 四川省成都市双流350信箱

专利代理机构:北京科迪生专利代理有限责任公司 11251

代理人:杨学明%李新华

国别省市代码:四川;51

权利要求：

一种用于高数值孔径投影光刻系统的照明模式产生装置，其特征在于：该装置的构成包括可调准分子激光器（1），沿该可调准分子激光器（1）激光输出方向的依次是扩束准直系统（2），单排微复眼阵列（3），微变形镜阵列（4），耦合镜组（5），傅里叶透镜组（6），照明目标面（7）；所述微变形镜阵列（4）包含可向Y方向一维旋转的第一微变形镜阵列（41），可向X方向一维旋转的第二微变形镜阵列（42）；所述耦合镜组（5）位于第一微变形镜阵列（41）与第二微变形镜阵列（42）之间，所述耦合镜组（5）包含第一耦合镜组（51）和第二耦合镜组（52）；所述第一微变形镜阵列（41）位于第一耦合镜组（51）的前焦面上，第二微变形镜阵列（42）位于傅里叶透镜组（6）的前焦面上，傅里叶透镜组（6）至少包含多片透镜；所述照明目标面（7）位于所述傅里叶透镜组（6）的后焦面上；所述可调准分子激光器（1）发出高斯光束经过扩束系统（2）准直后，由扩束准直系统（2）输出的准直的高斯激光光束经过单排微复眼阵列（3）后被细分成多个子光束，这些子光束聚焦到第一微变形镜阵列（41）上后被其反射，反射光束通过耦合镜组（5）转向后，在第二微变形镜阵列（42）上聚焦，被第二微变形镜阵列（42）反射后的光束经过傅里叶透镜组（6）成像在目标照明面（7）上，随着第一控制系统（81）和第二控制系统（82）分别控制第一微变形镜阵列（41），第二微变形镜阵列（42）的旋转，在目标照明面（7）上形成不同的照明光强分布。