一种现场足迹的拍照方式

摘要：

本发明提供一种现场足迹的拍照方式，在掠射光与足迹承痕客体之间的入射角度足够小的掠射光照明环境中定角度拍摄形成有足迹及足迹承痕客体的图像，在漫反射光照明环境中定角度拍摄无足迹的足迹承痕客体的图像，形成可以进行减层对比进而获得足迹图像的两幅图像。本发明一种现场足迹的拍照方式，利用掠射光的光照，可以拍摄形成有足迹的图像，在漫反射光照明环境中定角度拍摄无足迹的足迹承痕客体的图像，两次拍摄形成可以进行减层对比进而获得足迹图像的两幅图像。并且由于掠射光与足迹承痕客体之间的入射角度的选择，能够使得图像采集效果更好，从而为之后的足迹获取认定提供更好的图像材料。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410117440.5

申请日期：2014-03-27

公开/公告号：CN103838059A

公开/公告日：2014-06-04

主分类号：G03B15/02(2006.01)I

申请/专利权人:大连恒锐科技股份有限公司

发明/设计人:何晓光;李博;万德鹏

主申请人地址:116023 辽宁省大连市高新园区七贤岭希贤街31号

专利代理机构:北京元中知识产权代理有限责任公司 11223

代理人:王明霞

国别省市代码:辽宁;21

权利要求：

一种现场足迹的拍照方式，其特征在于：在掠射光与足迹承痕客体之间的入射角度足够小的掠射光照明环境中定角度拍摄形成有足迹及足迹承痕客体的图像，在漫反射光照明环境中定角度拍摄无足迹的足迹承痕客体的图像，两次拍摄形成可以进行减层对比进而获得足迹图像的两幅图像。