位置改变测量装置、位置改变测量方法和图像形成设备

摘要：

本发明的目的在于获得一种位置改变测量装置、位置改变测量方法和图像形成设备，该位置改变测量装置通过使用光斑图案来测量动态测量表面的位置改变，同时容易减少测量环境温度的波动的影响。位置改变测量装置包括：光源；照明光学系统，该照明光学系统被配置成将来自光源的光引导到被测量表面；成像光学系统；图像拾取装置，该图像拾取装置被配置成通过经由成像光学系统接收来自被测量表面的反射光来获得光斑图案；和检测长度补偿部件，该检测长度补偿部件用于补偿由温度波动所引起的检测长度的波动。基于对以预定时间间隔获得的多个光斑图案所进行的互相关计算的结果来测量测量表面的位置改变。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410095506.5

申请日期：2014-03-14

公开/公告号：CN104049487A

公开/公告日：2014-09-17

主分类号：G03G15/00(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社理光

发明/设计人:高浦淳;增田浩二;二瓶靖厚;上田健;工藤宏一;天田琢;清水研一;田村麻人

主申请人地址:日本东京都大田区中马込一丁目3番6号

专利代理机构:上海市华诚律师事务所 31210

代理人:肖华

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种位置改变测量装置，其特征在于，包含：光源；照明光学系统，所述照明光学系统被配置成将来自所述光源的光引导到被测量表面；成像光学系统；图像拾取装置，所述图像拾取装置被配置成通过经由所述成像光学系统接收来自所述被测量表面的反射光，来获得光斑图案；和检测长度补偿部件，所述检测长度补偿部件用于补偿由温度波动所引起的检测长度的波动，其中基于对以预定时间间隔获得的多个光斑图案进行的互相关计算的结果，来测量所述被测量表面的位置改变。