一种采用核回归技术的自适应光学邻近效应校正方法
本发明一种采用核回归技术的自适应光学邻近效应校正方法，具体过程为：建立EBOPC数据库和PBOPC数据库；将待优化的掩模图形分割成若干子掩模图形；确定每个子掩模图形中的观测点；为各观测点分配子区域；在各观测点周围区域内进行采样取点；计算每个观测点与其周围掩模图形的平均距离<img file="DDA0000476215400000011.TIF" wi="45" he="66" />；采用核回归技术生成OPC回归结果；将所有子掩模图形对应的OPC回归结果拼接为对应于整体掩模图形的OPC回归结果；对整体掩模图形的OPC回归结果进行后处理，获得最终的OPC优化结果。本发明利用核回归技术，有效提高了传统PBOPC的运算效率。
发明专利
CN201410090470.1
2014-03-12
CN103901713A
2014-07-02
G03F1/36(2012.01)I
北京理工大学
马旭;吴炳良;宋之洋;李艳秋;刘丽辉
100081 北京市海淀区中关村南大街5号
北京理工大学专利中心 11120
仇蕾安%李爱英
北京;11
一种采用核回归技术的自适应光学邻近效应校正方法，其特征在于，具体步骤为：步骤101、建立EBOPC数据库和PBOPC数据库；步骤102、将待优化的掩模图形分割成若干子掩模图形，相邻所述子掩模图形之间具有宽度为w<sub>overlap</sub>的重叠区域；步骤103、分别确定步骤102中的每个子掩模图形中的观测点，并将确定的观测点记为O<sub>k</sub>，其中子掩模图形中的观测点包括凸角顶点、凹角顶点和掩模图形边缘上的观测点；步骤104、为步骤103中的每一个观测点O<sub>k</sub>分配一个子区域Map<sub>k</sub>，每一个子区域中仅包含一个观测点；步骤105、对于每一个观测点O<sub>k</sub>，在其周围区域内进行采样取点，并将每个采样点对应像素值按顺序排列为一个向量<img file="FDA0000476215370000011.TIF" wi="68" he="61" />步骤106、计算每个观测点O<sub>k</sub>与其周围掩模图形的平均距离<img file="FDA0000476215370000012.TIF" wi="45" he="65" />；若<img file="FDA0000476215370000013.TIF" wi="299" he="67" />则在步骤107中采用PBOPC数据库进行核回归，否则在步骤107中采用EBOPC数据库进行核回归，其中符号threshold表示预定的阈值；步骤107、针对每个观测点O<sub>k</sub>，采用核回归技术，根据所述向量<img file="FDA0000476215370000014.TIF" wi="35" he="56" />从步骤106所选定的数据库中选择先验OPC优化结果进行加权平均，生成对应于观测点O<sub>k</sub>的OPC回归结果，并将观测点O<sub>k</sub>的OPC回归结果填充到对应的子区域Map<sub>k</sub>中，从而针对每一个子掩模图形拼接成一个OPC回归结果；步骤108、在每一个子掩模图形对应的OPC回归结果中，去掉其外围宽度为w<sub>overlap</sub>的边缘区域，并将所有子掩模图形对应的OPC回归结果拼接为对应于整体掩模图形的OPC回归结果；步骤109、对步骤108中获得的整体掩模图形的OPC回归结果进行后处理，并将最终获得的OPC图形作为最终的OPC优化结果。