一种光刻胶组合物

摘要：

本发明公开了一种光刻胶组合物，按重量份计，包括：聚醚改性的有机硅流平剂580.1-1.0份，多官能基单体7-23份；碱可溶树脂13-29份；颜料分散体23-62.8份；光引发剂1.5-11.9%；溶剂10-45%。这种光刻胶组合物能够解决现有光刻胶组合物涂膜流平性不好，在高温后烘后，膜层表面收缩的问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410040176.X

申请日期：2014-01-27

公开/公告号：CN103792789A

公开/公告日：2014-05-14

主分类号：G03F7/027(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:王雪岚

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人:李迪

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种光刻胶组合物，按重量份计，包括：聚醚改性的有机硅流平剂580.1‑1.0份，多官能基单体7‑23份；碱可溶树脂13‑29份；颜料分散体23‑62.8份；光引发剂1.5‑11.9份；溶剂10‑45份。