一种负性光刻胶及其制备方法、使用方法
本发明实施例提供了一种负性光刻胶及其制备方法、使用方法,涉及光刻胶领域,可以降低生产成本,广泛应用于实际生产中。所述制备方法包括:按照质量配比,将1~90份的含羟基或羧基的成膜树脂,1~99份的含硅乙烯基醚化合物以及0.5~15份的交联剂,溶解在能够溶解上述物质的有机溶剂中。
发明专利
CN201410037970.9
2014-01-26
CN103809378A
2014-05-21
G03F7/075(2006.01)I
京东方科技集团股份有限公司
汪建国;胡合合
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号
北京中博世达专利商标代理有限公司 11274
申健
北京;11
一种负性光刻胶的制备方法,其特征在于,包括:按照质量配比,将1~90份的含羟基或羧基的成膜树脂,1~99份的含硅乙烯基醚化合物,0.1~15份的交联剂,溶解在能够溶解上述物质的有机溶剂中。