一种光刻胶及其制作方法、使用方法

摘要：

本发明实施例提供了一种光刻胶及其制作方法、使用方法，涉及光刻胶领域，可以降低生产成本，广泛应用于实际生产中。所述制作方法包括：按照质量配比，将1～90份的含羟基或羧基的成膜树脂，1～99份的含硅乙烯基醚化合物，溶解在能够溶解上述物质的有机溶剂中。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201410036953.3

申请日期：2014-01-26

公开/公告号：CN103941544A

公开/公告日：2014-07-23

主分类号：G03F7/075(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:汪建国

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京中博世达专利商标代理有限公司 11274

代理人:申健

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种光刻胶的制作方法，其特征在于，包括：按照质量配比，将1～90份的含羟基或含羧基的成膜树脂，1～99份的含硅乙烯基醚化合物，溶解在能够溶解上述物质的有机溶剂中。