一种具有快速对准功能的新型纳米压印设备

摘要：

本实用新型公开了一种具有快速对准功能的新型纳米压印设备，包括机台，还包括：压印腔机构，其设置于上述机台上；模板平台，其连接一球轴和一Z轴运动驱动装置，该模板平台的上方还设置有一视觉观察装置；基板平台，其设置于上述机台上、上述模板平台的下方，该基板平台通过一平台驱动装置驱动，在上述压印腔机构和模板平台之间来回移动。本实用新型不但可以实现多层图像套刻压印，而且可以形成对准、贴合和压印等一系列的工作，提高整体的工作效率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201320824950.7

申请日期：2013-12-16

公开/公告号：CN203658727U

公开/公告日：2014-06-18

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:史晓华

发明/设计人:史晓华

主申请人地址:215513 江苏省苏州市常熟市常熟经济技术开发区（四海路11号）科创园2号楼102

专利代理机构:苏州华博知识产权代理有限公司 32232

代理人:魏亮芳

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种具有快速对准功能的新型纳米压印设备，包括机台，其特征在于：还包括：压印腔机构，其设置于所述机台上；模板平台，其连接一球轴和一Z轴运动驱动装置，所述模板平台的上方还设置有一视觉观察装置；基板平台，其设置于所述机台上、所述模板平台的下方，所述基板平台通过一平台驱动装置驱动，在所述压印腔机构和所述模板平台之间来回移动。