一种表面等离激元成像光刻结构

摘要：

一种表面等离激元成像光刻结构，其特征在于：由超透镜结构（1）、第一光栅（2）、抗蚀剂层（5）、基底（6）和第二光栅（7）组成。第一光栅（2）和第二光栅（7）位于超透镜结构（1）的上方，抗蚀剂层（5）位于超透镜结构（1）的下方。本实用新型利用光栅从两端激发SPP，二者发生干涉，形成干涉条纹，然后利用超透镜结构放大消逝波，在抗蚀剂上形成超分辨的像，进而完成曝光，既充分利用了SPP的短波长特性，又利用了超透镜的超分辨能力，从而实现超高的光刻分辨率。同时还能实现远场成像光刻，有助于改善焦深。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201320645119.5

申请日期：2013-10-20

公开/公告号：CN203490456U

公开/公告日：2014-03-19

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:安徽师范大学

发明/设计人:石建平;米佳佳;张青;张颖;姚敏

主申请人地址:241002 安徽省芜湖市花津南路

国别省市代码:安徽;34

权利要求：

一种表面等离激元成像光刻结构，其特征在于：由超透镜结构（1）、第一光栅（2）、抗蚀剂层（5）、基底（6）和第二光栅（7）组成，第一光栅（2）和第二光栅（7）位于超透镜结构（1）的上方，抗蚀剂层（5）位于超透镜结构(1)的下方。