一种涂胶机室

摘要：

本实用新型提供一种涂胶机室，包括胶杯、涂胶机台，所述涂胶机台包括晶片和吸盘，晶片设置于吸盘上，所述胶杯为圆台状，其横截面为T形，所述吸盘的位置与胶杯内侧顶端的间距为0.6―1.5cm，晶片边缘与胶杯侧壁的最短距离为2―4cm，在整个涂布过程中，使用了新型的胶杯外壳装置，相比原来的胶杯，外壳大小，高度，及斜面的改良，彻底的解决了第五步中甩出的光刻胶反溅回晶片表面造成缺陷，提升了涂布光刻胶这一步工艺中的良率及降低返工率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201320588085.0

申请日期：2013-09-23

公开/公告号：CN203561823U

公开/公告日：2014-04-23

主分类号：G03F7/16(2006.01)I

申请/专利权人:西安神光安瑞光电科技有限公司

发明/设计人:胡锋涛;陈起伟;侯柏宇;邓觉为;罗建华;李斌;种景;杜兴时

主申请人地址:710100 陕西省西安市航天基地东长安街888号

专利代理机构:西安智邦专利商标代理有限公司 61211

代理人:商宇科

国别省市代码:陕西;61

权利要求：

一种涂胶机室，包括胶杯、涂胶机台，所述涂胶机台包括晶片和吸盘，晶片设置于吸盘上，其特征在于：所述胶杯为圆台状，其横截面为T形。