一种具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机

摘要：

本实用新型公开一种具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机，包括用于被曝光的玻璃基板，其中，玻璃基板具有对准标记；一用于检测玻璃基板对准标记的定位工作台，玻璃基板的对准标记与定位工作台的固定标记对准；定位工作台具有电荷耦合元件图像传感器以及与电荷耦合元件图像传感器相互信号连接的处理器，处理器控制定位工作台进行XYθ方向运动调节；光学曝光机的若干曝光头正对玻璃基板。使用本实用新型通过自动对准系统的使用，有效地对定位工作台进行XYθ方向的运动修正。同时，通过四曝光头的设计使用，有效地提高光学曝光机曝光玻璃基板的面积，提升工作效率。

专利类型：实用新型

申请/专利号：CN201320182214.6

申请日期：2013-04-11

公开/公告号：CN203385993U

公开/公告日：2014-01-08

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:常熟晶悦半导体设备有限公司

发明/设计人:蔡良斌;丁天祥

主申请人地址:215513 江苏省苏州市常熟经济技术开发区科创园2号楼202室

专利代理机构:上海申新律师事务所 31272

代理人:竺路玲

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种具有自动对准系统的四曝光头光学曝光机，包括用于被曝光的玻璃基板，其特征在于， 所述玻璃基板具有对准标记； 一用于检测所述玻璃基板对准标记的定位工作台，所述玻璃基板的对准标记与所述定位工作台的固定标记对准； 所述定位工作台具有电荷耦合元件图像传感器以及与所述电荷耦合元件图像传感器相互信号连接的处理器，所述处理器控制所述定位工作台进行XYθ方向运动调节； 所述光学曝光机包括位于所述玻璃基板上方的若干曝光头，所述曝光头正对所述玻璃基板； 所述光学曝光机还包括用于传输所述玻璃基板至所述定位工作台的上料机构以及从所述定位工作台移除的下料机构。