一种尖嘴狭缝式出流结构工艺喷嘴

摘要：

一种尖嘴狭缝式出流结构工艺喷嘴，包括喷嘴主体、喷嘴底板和挡板，喷嘴底板安装于喷嘴主体，喷嘴主体的法兰凸台与喷嘴底板的第一凹槽相配合；挡板安装于喷嘴底板，挡板的凸台与喷嘴底板的第二凹槽配合，喷嘴底板的挡流板与凸台之间形成狭缝流道，挡流板底端的锐角倒角结构与凸台下端的挡板倒角结构形成尖嘴喷涂结构。本发明工艺喷嘴能够用于集成电路芯片显影工艺中显影液的输出，通过对工艺喷嘴的整体设计形成具有尖嘴喷涂结构的出射狭缝流道，实现有效、均匀喷涂，解决了现有显影喷嘴喷涂不均匀以及液体出射压力过大对喷涂表面产生过大冲击的难题，满足显影工艺发展的要求。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310715465.0

申请日期：2013-12-23

公开/公告号：CN103698986A

公开/公告日：2014-04-02

主分类号：G03F7/30(2006.01)I

申请/专利权人:清华大学深圳研究生院

发明/设计人:刘学平;徐强;王汉;向东;牟鹏;段广洪

主申请人地址:518055 广东省深圳市南山区西丽大学城清华大学深圳研究生院

专利代理机构:深圳市汇力通专利商标代理有限公司 44257

代理人:茅秀彬%王锁林

国别省市代码:广东;44

权利要求：

一种尖嘴狭缝式出流结构工艺喷嘴，其特征在于，包括：喷嘴主体，包括位于所述喷嘴主体一侧的输入口、设于所述喷嘴主体另一侧的法兰凸台和由所述法兰凸台顶面向内凹陷形成的主体流道，所述主体流道与所述输入口相连通；喷嘴底板，包括分别设于所述喷嘴底板两侧的第一凹槽、第二凹槽，以及排布于所述第一凹槽底部的若干小孔，所述第二凹槽底部形成挡流板，所述小孔贯穿所述第一凹槽底面至所述第二凹槽底面，所述挡流板自由端设有锐角倒角结构；挡板，包括一凸台，所述凸台下端设有锐角的挡板倒角结构；所述喷嘴底板安装于所述喷嘴主体，所述法兰凸台与所述第一凹槽相配合；所述挡板安装于所述喷嘴底板，所述凸台与所述第二凹槽配合，所述挡流板与所述凸台之间形成狭缝流道，所述挡流板底端的锐角倒角结构与所述凸台下端的挡板倒角结构形成尖嘴喷涂结构。