一种光阻墙成型方法
本发明提供了一种光阻墙成型方法，其使用注塑技术成型一块平板，平板的正面具有相同高度的第一凸台和第二凸台，在第一凸台和第二凸台之间由凹槽分隔；将所述平板正面滚胶并与第一基板压合，再对平板背面进行碾磨减薄，直至第一凸台和第二凸台底部分离；并用紫外光照射去除第一基板上的粘性；采用一个转移基板将第一凸台从第一基板上分离出来，并将滚上胶的第一凸台背面与第二基板键合；最后解除第一凸台与转移基板间的临时键合，形成光阻墙结构。其优点是：由于光阻墙结构是单独成型，相比传统光刻胶光刻方法可大大减少在光阻墙成型过程中污染导致不合 ¼器件产生的几率。注塑使用的材料提高光阻墙光罩结构强度，有效减少分层和脱离等可靠性问题。
发明专利
CN201310666847.9
2013-12-10
CN103698968A
2014-04-02
G03F1/00(2012.01)I
华进半导体封装先导技术研发中心有限公司
徐成;于大全;李昭强
214135 江苏省无锡市新区太湖国际科技园菱湖大道200号中国传感网国际创新园D1栋
无锡市大为专利商标事务所 32104
曹祖良%韩凤
江苏;32
一种光阻墙成型方法，其特征是，包括以下步骤：（1）使用注塑技术成型一块平板，平板的正面具有第一凸台（1）和第二凸台（2），所述第一凸台（1）为网格状，每个网格内具有一个第二凸台（2），在第一凸台（1）和第二凸台（2）之间由凹槽分隔，所述第一凸台（1）与第二凸台（2）具有相同高度；（2）将所述平板正面滚胶并与第一基板（3）压合，使得所述第一凸台（1）和第二凸台（2）粘贴在所述第一基板（3）上；（3）对平板背面进行碾磨减薄，直至第一凸台（1）和第二凸台（2）底部分离；并用紫外光照射去除第一基板（3）上的粘性；（4）采用一个转移基板（7），所述转移基板（7）正面具有与所述第一凸台（1）一致的网格状凸台，将转移基板（7）的凸台与第一凸台（1）对准，进行滚胶、压合；（5）将第一凸台（1）从第一基板（3）上分离出来，并在第一凸台（1）背面滚胶；（6）将滚上胶的第一凸台（1）背面与第二基板（4）压合，并进行固化工艺，使得第一凸台（1）与第二基板（4）形成永久键合；（7）通过解键合工艺解除第一凸台（1）与转移基板（7）间的临时键合，形成光阻墙结构。