位置检测装置、曝光装置及曝光方法

摘要：

本发明提供一种位置检测装置，具备从相对于受检面倾斜的方向向受检面上投射光束的投射系统、接收由受检面反射的光束的受光系统，及基于利用受光系统的光束的受光结果，检测出关于与受检面交差的方向的受检面的位置的检测部。位置检测装置还包括：反射面，配置于在投射系统的光束的光路和在受光系统的光束的光路的至少其中之一，用以反射上述光束；及补偿部材，对因为上述光束在上述反射面被反射而上述光束中的偏光方向彼此相异的第一偏光成分和第二偏光成分之间发生的相对位置错移进行补偿的方式，配置在光束的光路上。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310661731.6

申请日期：2006-06-28

公开/公告号：CN103728848A

公开/公告日：2014-04-16

主分类号：G03F9/00(2006.01)I

申请/专利权人:株式会社尼康

发明/设计人:日高康弘;长山匡

主申请人地址:日本东京都千代田区有乐町一丁目12番1号

专利代理机构:北京中原华和知识产权代理有限责任公司 11019

代理人:寿宁

国别省市代码:日本;JP

权利要求：

一种位置检测装置，具备从相对于受检面倾斜的方向向上述受检面上投射光束的投射系统、接收由上述受检面反射的上述光束的受光系统，及基于利用上述受光系统的上述光束的受光结果，检测出关于与上述受检面交差的方向的上述受检面的位置的检测部，该位置检测装置的特征是，还包括：反射面，配置于在上述投射系统的上述光束的光路和在上述受光系统的上述光束的光路的至少其中之一，用以反射上述光束；及补偿部材，对因为上述光束在上述反射面被反射而上述光束中的偏光方向彼此相异的第一偏光成分和第二偏光成分之间发生的相对位置错移进行补偿的方式，配置在上述光束的光路上。