一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法

摘要：

本发明涉及一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法，包括如下步骤：1）对表面含有浮雕纳米结构的纳米压印模板进行表面防粘处理；2）对一块刚性基片进行偶联处理；3）在步骤2）中经过偶联处理的刚性基片上涂覆一层巯基-烯材料；4）将步骤1）中经过防粘处理的纳米压印模板和步骤3）中的表面涂覆巯基-烯材料的刚性基片放置在纳米压印机中进行对准压印；5）利用紫外光将巯基-烯材料固化成型；6）纳米压印模板脱模后，对巯基-烯材料结构层进行表面防粘处理，制备获得纳米压印聚合物模板。本发明的显著特点是制备过程无需刻蚀和高真空条件，大大简化了制备工艺，降低了制作成本，促进了纳米压印聚合物模板在纳米结构制备领域的广泛应用。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310655957.5

申请日期：2013-12-08

公开/公告号：CN103631089A

公开/公告日：2014-03-12

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院光电技术研究所

发明/设计人:邓启凌;张满;史立芳;胡松;曹阿秀;秦燕云;李志炜

主申请人地址:610209 四川省成都市双流350信箱

专利代理机构:北京科迪生专利代理有限责任公司 11251

代理人:杨学明%孟卜娟

国别省市代码:四川;51

权利要求：

一种紫外光固化纳米压印聚合物模板的制备方法，其特征在于包括以下步骤：（1）获取一块纳米压印模板，并对其进行表面防粘处理；（2）配制杨氏模量大于50MPa的巯基?烯材料；（3）取一块表面干净的刚性基片，并对其表面进行偶联处理，增加基片表面与巯基?烯材料的粘附力；（4）在步骤（3）中的刚性基片上涂覆一层步骤（2）中配制的巯基?烯材料；（5）将步骤（1）中的纳米压印模板和步骤（4）中的刚性基片一起放入纳米压印机中进行对准压印，使巯基?烯材料层与纳米压印模板中的结构面紧密贴合，之后放在紫外光下进行固化；（6）在巯基?烯材料固化成型后，将含有巯基?烯材料结构层的刚性基片从纳米压印模板上剥离下来，获得由刚性基底和巯基?烯材料结构层组成的复合纳米结构；（7）将步骤（6）中的复合纳米结构进行表面防粘处理，制备完成纳米压印聚合物模板。