一种光刻机投影物镜波像差的测量方法

摘要：

本发明公开了一种用于投影式光刻机成像系统的波像差检测方法，包括光刻机成像系统的快速正向模型建立，泽尼克系数灵敏度矩阵的解析求解，检测用掩模图形优化求解，基于单次光强测量的波像差求解。本发明方法通过解析求解无像差时的空间像光强值和泽尼克系数灵敏度矩阵，实现了基于单次离焦空间像光强测量的波像差检测。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310597584.0

申请日期：2013-11-23

公开/公告号：CN103616802A

公开/公告日：2014-03-05

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:华中科技大学

发明/设计人:刘世元;许爽;龚朋;周新江;吕稳

主申请人地址:430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路1037号

专利代理机构:华中科技大学专利中心 42201

代理人:朱仁玲

国别省市代码:湖北;42

权利要求：

一种光刻机投影物镜波像差的测量方法，用于对投影物镜的波像差进行原位检测，所述方法包括以下步骤：步骤102，根据实际光刻机工艺条件确定曝光的特性参数，其中，特性参数包括光刻机的数值孔径，光源的波长、形状以及其他光源参数；步骤104，根据投影式光刻机的部分相干成像系统理论，简化光刻投影成像正向模型；步骤106，根据简化后的成像正向模型，计算泽尼克系数的灵敏度矩阵，其中，灵敏度矩阵是由每个泽尼克系数对应的一个子矩阵组成的矩阵；步骤108，采用灵敏度矩阵的条件数作为目标函数对掩模图形的参数进行优化，得到最优掩模；步骤110，采用优化得到的掩模图形，在一定离焦处进行实际曝光测量空间像光强；步骤112，根据曝光得到的光强值，求解泽尼克系数，得到重构的波像差。