一种改善线端缩短效应的光学临近修正方法

摘要：

一种改善线端缩短效应的光学临近修正方法，包括：根据报出点地坐标找出相应的线端图形，找出所有目标线端图形组，每个目标线端图形组中的两个线端图形不满足延伸方向相互平行且延伸方向处于同一直线上的条件；量测其中的两个目标线端本身长度、两个目标线端相邻两边的长度，以及两个目标线端之间的距离；根据所有满足条件的目标线端的量测结果，确定最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距；以最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距作为甄选条件，对目标线端图形进行甄选，选出符合条件的所有非正对线端组，并对选出的线端图形进行切角处理，以切割掉两个非正对的目标线端的相对端两侧的角边；执行OPC修正处理。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310561167.0

申请日期：2013-11-12

公开/公告号：CN103543599A

公开/公告日：2014-01-29

主分类号：G03F1/36(2012.01)I

申请/专利权人:上海华力微电子有限公司

发明/设计人:何大权;魏芳;张旭升

主申请人地址:201203 上海市浦东新区高科技园区高斯路568号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:陆花

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种改善线端缩短效应的光学临近修正方法，其中将光刻的模拟图形跟目标图形比较，而且在模拟检查发现线端缩短报出点后，执行如下步骤：第一步骤，用于根据报出点地坐标找出相应的线端图形，找出所有目标线端图形组，每个目标线端图形组包括两个线端图形，而且每个目标线端图形组中的两个线端图形不满足延伸方向相互平行且延伸方向处于同一直线上的条件；第二步骤，用于针对每个目标线端图形组，量测其中的两个目标线端本身长度、两个目标线端相邻两边的长度，以及两个目标线端之间的距离；第三步骤，用于根据所有满足条件的目标线端的量测结果，确定最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距；第四步骤，用于以第三步骤确定的最终线端长度、最终线端邻边长度以及最终线端间距作为甄选条件，对目标线端图形进行甄选，选出符合条件的所有非正对线端组，并对选出的线端图形进行切角处理，以切割掉两个非正对的目标线端的相对端两侧的角边；第五步骤，用于在切角处理之后执行OPC修正处理。