一种用于纳米压印的复合模板及其制备方法

摘要：

本发明属于纳米压印技术领域，具体公开了一种用于纳米压印的复合模板及其制备方法，目的在于制作出一种尺度小、面积大、易于脱模、可重复使用的纳米压印模板。首先通过热压印制备弹性体薄膜；其次通过热压印在弹性体薄膜表面获得纳米结构；再通过PECVD的方法在该纳米结构上沉积一层二氧化硅渐变层；最后用氯硅烷进行防粘，从而制得复合模板。本发明的复合模板具有二氧化硅层，其较高的弹性模量保证了高的分辨率，而弹性较好的弹性体层提高了压印时与衬底贴合的紧密性。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310545363.9

申请日期：2013-11-06

公开/公告号：CN103576449A

公开/公告日：2014-02-12

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:无锡英普林纳米科技有限公司

发明/设计人:陈辉婷;胡昕;袁长胜

主申请人地址:214192 江苏省无锡市芙蓉中三路99号

专利代理机构:南京知识律师事务所 32207

代理人:李媛媛

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种用于纳米压印的复合模板，包括弹性体的结构模板，其特征在于，在弹性体的结构模板上依次制备有二氧化硅渐变层和防粘层。