一种利用纳米压印制备多孔减反射薄膜的方法

摘要：

本发明属于微纳米加工与应用领域，具体涉及一种利用纳米压印制备多孔减反射薄膜的方法。首先通过电子束曝光技术(EBL)制备所需结构的母模板A(比如400nm周期点阵结构，点直径200nm)；其次利用电子束蒸发镀膜设备在模板A表面蒸镀20nm的金属Ni；将镀有20nm金属Ni的模板A放入配置好的电镀液中，利用电镀生长一层100-300微米厚的Ni层；将生长好的Ni层与模板A分开，得到与模板A结构相反的金属Ni模板B(400nm周期孔阵结构，孔直径200nm)；利用金属Ni模板B压印所需的薄膜，比如PMMA膜，PET膜等等，得到所需的减反增透薄膜。本发明制备的薄膜能减少可见光、红外波段的反射，可以很好地应用在很多减反增透的领域。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310544459.3

申请日期：2013-11-06

公开/公告号：CN103576448A

公开/公告日：2014-02-12

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:无锡英普林纳米科技有限公司

发明/设计人:郭旭

主申请人地址:214192 江苏省无锡市芙蓉中三路99号

专利代理机构:南京知识律师事务所 32207

代理人:李媛媛

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种利用纳米压印制备多孔减反射薄膜的方法，其特征在于，具体的制备步骤如下：a)利用电子束曝光技术制备纳米压印母模板A；b)在纳米压印母模板A表面利用电子束蒸发镀膜设备蒸镀一层20nm厚的金属Ni；c)配置好电镀液，将步骤b)制备的母模板A放置电镀液中进行电镀，经过适当时间，得到金属Ni镀层；d)将金属Ni镀层与母模板A分开，得到与母模板A结构相反的金属Ni模板B；e)将金属Ni模板B放置在待压印薄膜上，然后一起放入纳米压印机器；选择热压印模式，在一定的压力和温度下开始压印；f)压印所需时间后，分离待压薄膜与金属Ni模板B，即得到所需的多孔透明薄膜C。