一种含氟聚合物紫外纳米压印模板及其制备方法

摘要：

本发明提供了一种含氟聚合物紫外纳米压印模板及其制备方法。该模板由衬底和位于衬底上的含氟聚合物压印结构层组成，衬底为石英或者含氟聚合物自身。在石英衬底上旋涂CYTOP聚合物溶液，通过加热蒸发除去旋涂的CYTOP聚合物溶液中的残余含氟溶剂，再在纳米压印机上用压印母模板以热纳米压印的方式对石英衬底上的CYTOP固体膜进行压印；或者将CYTOP聚合物溶液浇筑在压印母模板上，待其自动流平并填满母模板的结构，通过加热蒸发除去溶液中的含氟溶剂，得到CYTOP固体膜。最后，分离压印母模板和CYTOP固体膜得到含氟聚合物紫外纳米压印模板。利用本发明的紫外纳米压印模板，能够省去纳米压印模板制备中的防粘处理工艺，并解决模板多次压印后，防粘效果下降的问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310543038.9

申请日期：2013-11-05

公开/公告号：CN103576447A

公开/公告日：2014-02-12

主分类号：G03F7/00(2006.01)I

申请/专利权人:无锡英普林纳米科技有限公司

发明/设计人:边捷;袁长胜;陈延峰

主申请人地址:214192 江苏省无锡市芙蓉中三路99号

专利代理机构:南京知识律师事务所 32207

代理人:李媛媛

国别省市代码:江苏;32

权利要求：

一种含氟聚合物紫外纳米压印模板，其特征在于，所述模板由衬底和位于衬底上的含氟聚合物压印结构层组成，所述衬底为石英或者含氟聚合物自身。