一种直写式光刻系统中内层对位的方法
本发明公开了一种直写式光刻系统中内层对位的方法，包括，曝光电路板的正面电路图时，由打标装置同时将标记打在电路板的反面上，标记在电路板的下边框上的空白部位，同时将标记的相对于载体平台坐标系中位置数据（xbi，ybi）、i=0-n,其中n可以为7，转换到电路图的坐标系中，即为（xBi，yBi）、i=0-n，电路图的坐标系须以电路图的中心为基准，电路图在曝光反面时以绕于曝光运行方向的垂直方向翻转，即上下翻板。标记的相对于平台坐标系中位置数据（xbi，ybi）、i=0～n，是由系统中面阵CCD预先测量记录保存；上下翻板后做电路板反面曝光时，同样由系统中面阵CCD测量标记的位置坐标（xci，yci）、i=0-n，再与传递过来标记在电路图中坐标（xBi，yBi）、i=0-n进行分析，计算出电路图的旋转、平移数据，计算中计算旋转角再计算平移数据。
发明专利
CN201310520801.6
2013-10-29
CN103529654A
2014-01-22
G03F7/20(2006.01)I
天津芯硕精密机械有限公司
陈勇;李显杰
300457 天津市滨海新区天津开发区黄海路167号
天津市三利专利商标代理有限公司 12107
闫俊芬
天津;12
一种直写式光刻系统中内层对位的方法，其特征在于，包括以下步骤：?第1步，在以载板平台建立的二维直角坐标系中，计算打标装置的坐标为（xbi，ybi），其中，i为0?n的整数；?第2步，电路板放置到所述载板平台做正面曝光时，打标装置将标记同时打到所述电路板的反面，计算电路图中心点在以所述载板平台建立的二维直角坐标系中的坐标为（xL，yL），根据所述打标装置的坐标和所述电路图中心点的坐标计算出所述标记在以电路图建立的二维直角坐标系中的坐标（xBi，yBi），其中，i为0?n的整数;?第3步，将所述电路板绕曝光运行方向的垂直方向翻转180°，完成上下翻板，所述打到电路板反面的标记将翻转到电路板的上部，计算所述标记在以载板平台建立的二维直角坐标系中的坐标（xci，yci），i=0?n；?第4步，选取i=0，j等于可见标记最大的序数，代入旋转角β计算公式：arctg[(yci?ycj)/(xci?xcj)]?arctg[(yBi?yBj)/(xBi?xBj)]和平移数据计算公式：?计算出所述旋转角β和所述平移数据；?第5步，根据所述旋转角β和所述平移数据，对电路板反面曝光图形进行图像旋转和平移操作。?2013105208016100001dest_path_image001.jpg