一种表面等离激元成像光刻结构
一种表面等离激元成像光刻结构,其特征在于:由超透镜结构(1)、第一光栅(2)、抗蚀剂层(5)、基底(6)和第二光栅(7)组成。第一光栅(2)和第二光栅(7)位于超透镜结构(1)的上方,抗蚀剂层(5)位于超透镜结构(1)的下方。本发明利用光栅从两端激发SPP,二者发生干涉,形成干涉条纹,然后利用超透镜结构放大消逝波,在抗蚀剂上形成超分辨的像,进而完成曝光,既充分利用了SPP的短波长特性,又利用了超透镜的超分辨能力,从而实现超高的光刻分辨率。同时还能实现远场成像光刻,有助于改善焦深。?
发明专利
CN201310490996.4
2013-10-20
CN103499913A
2014-01-08
G03F7/20(2006.01)I
安徽师范大学
石建平;米佳佳;张青;张颖;姚敏
241002 安徽省芜湖市花津南路
安徽;34
一种表面等离激元成像光刻结构,其特征在于:由超透镜结构(1)、第一光栅(2)、抗蚀剂层(5)、基底(6)和第二光栅(7)组成,第一光栅(2)和第二光栅(7)位于超透镜结构(1)的上方,抗蚀剂层(5)位于超透镜结构(1)的下方。