一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法

摘要：

本发明公开了一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法，该方法采用金属丝网作为基片，并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。利用本发明，采用金属丝网结构能够有效提供PMMA光刻胶与金属丝网从分相互包裹融合，使同步辐射光刻后的PMMA光刻胶柱子结构牢固地与金属丝网结合，不会发生倒塌和脱落，保证了PMMA光刻胶柱子结构具有非常大的高宽比，从而提高了LIGA技术的研究水平。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310380360.4

申请日期：2013-08-28

公开/公告号：CN103488051A

公开/公告日：2014-01-01

主分类号：G03F7/16(2006.01)I

申请/专利权人:中国科学院高能物理研究所

发明/设计人:伊福廷

主申请人地址:100049 北京市石景山区玉泉路19号乙

专利代理机构:中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人:任岩

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种用于LIGA技术的光刻胶膜与基片的复合结构的制备方法，其特征在于，该方法采用金属丝网作为基片，并通过热压方法将PMMA光刻胶薄片粘接在该金属丝网上。