一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺方法

摘要：

本发明涉及显示技术领域，特别涉及一种自对位曝光取向设备及制作相位差板的工艺。该设备包括基台，其用于放置待取向显示面板，与待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；第一基板上设有第一偏振片，第一偏振片上设有光取向层；从第二基板射向第一基板的光为线性偏振光；第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，第二曝光光源射出的光为线性偏振光，线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。本发明提供的自对位曝光设备，避免采用掩膜版制作相位差板，最大程度地降低生产成本且使得对位精度得以提高。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310356415.8

申请日期：2013-08-15

公开/公告号：CN103488057A

公开/公告日：2014-01-01

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:京东方科技集团股份有限公司

发明/设计人:武延兵

主申请人地址:100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号

专利代理机构:北京路浩知识产权代理有限公司 11002

代理人:王莹

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种自对位曝光取向设备，其特征在于，包括：基台，所述基台用于放置待取向显示面板，所述基台与所述待取向显示面板显示区域对应的区域透明设置；与所述待取向显示面板连接的显示面板驱动系统，所述待取向显示面板上间隔分布第一像素组和第二像素组；在所述显示面板驱动系统的控制下，控制所述待取向显示面板与所述第一像素组相对应的区域为透光状态，控制所述待取向显示面板与所述第二像素组相对应的区域为遮光状态；所述待取向显示面板包括第一基板和第二基板，所述第一基板上设有第一偏振片，所述第一偏振片上设有光取向层；从所述第二基板射向所述第一基板的光为线性偏振光；第一曝光光源，位于靠近所述第二基板的一侧；第二曝光光源，位于靠近所述第一基板的一侧，所述第二曝光光源射出的光为线性偏振光，所述线性偏振光的偏振方向与所述第一偏振片的透光轴方向相垂直。