一种用于光刻设备的硅片对准光源系统

摘要：

本发明提出一种用于光刻设备的硅片对准光源系统，其特征在于包括：光源模块，光强调制模块，光纤模块，光电探测模块，AD采集模块，相位调整模块，控制模块以及对准探测模块；所述光源模块发出的光经过所述光强调制模块幅度调制，并通过所述光纤模块后一路进入所述对准探测模块；另一路经过所述光电探测模块进行光电转换，所述AD采集模块采集和所述相位调整模块校准后，经过所述控制模块对所述光强调制模块进行控制。本发明提出的基于光源内部幅度调制的硅片对准光源系统，对光源的波动量进行调校，大幅降低硅片对准系统的开发成本，缩小系统的空间结构尺寸，提高了信号的抗干扰性和对准重复精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310173131.5

申请日期：2013-05-13

公开/公告号：CN104155849A

公开/公告日：2014-11-19

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司%上海微高精密机械工程有限公司

发明/设计人:戈亚萍;李运锋;王海江;宋海军

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

 一种用于光刻设备的硅片对准光源系统，其特征在于包括：光源模块，光强调制模块，光纤模块，光电探测模块，AD采集模块，相位调整模块，控制模块以及对准探测模块；所述光源模块发出的光经过所述光强调制模块幅度调制，并通过所述光纤模块后一路进入所述对准探测模块；另一路经过所述光电探测模块进行光电转换，所述AD采集模块采集和所述相位调整模块校准后，经过所述控制模块对所述光强调制模块进行控制。