一种调焦调平装置及方法

摘要：

本发明提出一种光刻设备的调焦调平装置，包括：照明单元，投影狭缝，投影单元，成像单元，反射镜，探测单元以及中央处理器；所述照明单元发出的光把所述投影狭缝通过所述投影单元投影在一硅片表面形成光斑；所述光斑在硅片表面反射后，经过所述成像单元、所述反射镜进入所述探测单元；其特征在于，所述调焦调平装置，还包括：反射镜驱动台，驱动所述反射镜沿入射光束方向进行一维扫描运动；以及位置测量单元，用于测量所述反射镜的垂向位置信息；所述中央处理单元，依据所述探测单元采集到的所述光斑的光强信息以及所述位置测量单元获得的所述反射镜的位置信息计算所述硅片表面位置信息。本发明提出的调焦调平装置及方法，能够在硅片表面反射率不一致的情况下获取被测对象表面的垂向位置，提高调焦调平的工艺适应性及对准精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310158882.X

申请日期：2013-05-03

公开/公告号：CN104133345A

公开/公告日：2014-11-05

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司%上海微高精密机械工程有限公司

发明/设计人:王海江;程鹏;陈飞彪;宋海军

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种光刻设备的调焦调平装置，包括：照明单元，投影狭缝，投影单元，成像单元，反射镜，探测单元以及中央处理器；所述照明单元发出的光把所述投影狭缝通过所述投影单元投影在一硅片表面形成光斑；所述光斑在硅片表面反射后，经过所述成像单元、所述反射镜进入所述探测单元；其特征在于，所述调焦调平装置，还包括：反射镜驱动台，驱动所述反射镜沿入射光束方向进行一维扫描运动；以及位置测量单元，用于测量所述反射镜的垂向位置信息；所述中央处理单元，依据所述探测单元采集到的所述光斑的光强信息以及所述位置测量单元获得的所述反射镜的位置信息计算所述硅片表面位置信息。