一种UV Mask及其制作方法

摘要：

本发明公开了一种UV Mask及其制作方法，包括：通过彩色滤光层掩模板和黑矩阵掩模板在衬底基板上形成遮光层；或者，通过彩色滤光层掩模板在衬底基板上形成遮光层；衬底基板表面区域的大小设置为与显示装置面板中显示区和M区的大小相等；M区位于显示区外侧和封框胶内侧之间的区域，且M区靠近显示区的边界线与显示区的边界线重合。通过本发明能够解决采用专门的掩模板（Mask）来制作UV Mask造成的显示装置的制作成本高的问题。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310097951.0

申请日期：2013-03-25

公开/公告号：CN104076598A

公开/公告日：2014-10-01

主分类号：G03F1/54(2012.01)I

申请/专利权人:北京京东方光电科技有限公司

发明/设计人:宋省勋

主申请人地址:100176 北京市大兴区经济技术开发区西环中路8号

专利代理机构:北京派特恩知识产权代理有限公司 11270

代理人:张颖玲%任媛

国别省市代码:北京;11

权利要求：

一种UV Mask制作方法，其特征在于，该方法包括：通过彩色滤光层掩模板和黑矩阵掩模板在衬底基板上形成遮光层；或者，通过彩色滤光层掩模板在衬底基板上形成遮光层；所述衬底基板表面区域的大小设置为与显示装置面板中显示区和M区的大小相等；所述M区位于所述显示区外侧和封框胶内侧之间的区域，且所述M区靠近显示区的边界线与所述显示区的边界线重合。