一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置

摘要：

本发明公开了一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置，位于照明单元与掩模板之间，包括：设置有若干抽排孔的玻璃板、抽排控制单元；所述玻璃板位于掩模板上方，与掩模板平行设置；所述玻璃板相对物镜组固定设置，且至少覆盖掩模板当前曝光区域；所述抽排控制单元通过所述抽排孔对所述玻璃板与掩模板之间的间隙进行抽排，在掩模板上下表面间形成压力差，补偿所述掩模板的自重变形量。与现有技术相比，本发明在不改变现有硬件架构的条件下，解决步进扫描光刻机中，大掩模板自重变形补偿问题，使掩模板在整个扫描运动过程中，物方视场内的自重变形得到有效控制，无需通过物镜对物面进行调节。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310064813.2

申请日期：2013-03-01

公开/公告号：CN104020643A

公开/公告日：2014-09-03

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:许琦欣;龚辉

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于光刻设备的大掩模板面型补偿装置，其特征在于，所述面型补偿装置位于照明单元与掩模板之间，包括：设置有若干抽排孔的玻璃板、抽排控制单元；所述玻璃板位于掩模板上方，与掩模板平行设置；所述玻璃板相对物镜组固定设置，且至少覆盖掩模板当前曝光区域；所述抽排控制单元通过所述抽排孔对所述玻璃板与掩模板之间的间隙进行抽排，在掩模板上下表面间形成压力差，补偿所述掩模板的自重变形量。