一种套刻测量的装置和方法

摘要：

一种套刻测量装置，依次包括：光源、偏振调节机构、分束镜、投影物镜和探测器，从所述光源发出的光经所述偏振调节机构调节偏振模式后入射至所述分束镜，由所述分束镜反射后被所述投影物镜会聚到待测套刻标记上，从所述套刻标记衍射的光由所述投影物镜收集后透射穿过所述分束镜并成像到所述探测器的探测面上；其特征在于，所述偏振调节机构可将所述光源发出的光调节为不同的偏振模式。利用本发明的装置进行测量时，在入射光的不同偏振模式下分别采集标记的衍射光强信号，利用两次测得的光强的比值，即自参考信号来计算套刻误差，消除了eDBO测量过程中照明、透过率和探测器像素灵敏度非均匀性对测量结果的影响。相比传统方法，该方法可实现更高的测量精度。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310041151.7

申请日期：2013-02-04

公开/公告号：CN103969960A

公开/公告日：2014-08-06

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:张青云;陆海亮;王帆

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种套刻测量装置，依次包括：光源、偏振调节机构、分束镜、投影物镜和探测器，从所述光源发出的光经所述偏振调节机构调节偏振模式后入射至所述分束镜，由所述分束镜反射后被所述投影物镜会聚到待测套刻标记上，从所述套刻标记衍射的光由所述投影物镜收集后透射穿过所述分束镜并成像到所述探测器的探测面上；其特征在于，所述偏振调节机构可将所述光源发出的光调节为不同的偏振模式。