一种多曝光视场拼接系统和方法

摘要：

本发明提供了一种多曝光视场拼接系统和方法，包括：掩膜，所述掩膜上设有大小不同的图像；多个照明单元，所述多个照明单元照射所述掩膜上的图像以形成多个成像单元，每个成像单元包括一个曝光视场；基板，将多个曝光视场在基板上拼接形成拼接视场；其中，所述曝光视场包括：曝光视场PA，对应曝光视场宽度PA，曝光视场PB，对应曝光视场宽度PB，曝光视场PC，对应曝光视场宽度PC，其中，PA>PB>PC，宽度PA=宽度PB=宽度PC。曝光视场的拼接方法更具有灵活性，可以根据不同产品对拼接视场的大小的不同需求，选择不同的拼接方法，提供了更多拼接尺寸的拼接市场。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310029993.0

申请日期：2013-01-25

公开/公告号：CN103969958A

公开/公告日：2014-08-06

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:武珩

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张东路1525号

专利代理机构:上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237

代理人:屈蘅%李时云

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种多曝光视场拼接系统，其特征在于，包括：掩膜，所述掩膜上设有大小不同的图像；多个照明单元，所述多个照明单元照射所述掩膜上的图像以形成多个成像单元，每个成像单元包括一个曝光视场；基板，将多个曝光视场在基板上拼接形成拼接视场；其中，所述曝光视场包括：曝光视场PA，对应曝光视场宽度PA，曝光视场PB，对应曝光视场宽度PB，曝光视场PC，对应曝光视场宽度PC，其中，PA>PB>PC；宽度PA=宽度PB=宽度PC。