一种用于光刻装置的双面套刻系统及方法

摘要：

本发明公开一种用于光刻装置的双面套刻系统，包括：一照明模块，用于提供辐射束；一支撑结构，用于支撑图案形成装置；一投影物镜，用于将图案成像至晶圆，该晶圆包括一位于背面的图案，该晶圆经过曝光后正面获得一对准标记和一套刻图案，一支撑结构，用于固定晶圆；一双面套刻误差测量装置，用于测量该套刻图案与该背面图案的相对位置误差，一正面对准系统，用于确定该晶圆正面的对准标记位置。本发明还同时公开一种用于光刻装置的双面套刻方法。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201310009430.5

申请日期：2013-01-11

公开/公告号：CN103926797A

公开/公告日：2014-07-16

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:毛方林;李煜芝;王健

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种用于光刻装置的双面套刻系统，其特征在于，包括：一照明模块，用于提供辐射束；一支撑结构，用于支撑图案形成装置；一投影物镜，用于将图案成像至衬底，所述衬底包括一位于背面的图案，所述衬底经过曝光后正面获得一对准标记和一套刻图案，一支撑结构，用于固定衬底；一双面套刻误差测量装置，用于测量所述套刻图案与所述背面图案的相对位置误差，一正面对准系统，用于确定所述衬底正面的对准标记位置。