一种调焦调平检测装置

摘要：

本发明提出一种调焦调平检测装置，用于放大倍率为1的光刻系统的调焦调平，包括光源系统，掩模板，掩模台，投影物镜，硅片，工件台等，其特征在于，还包括一气动差分测量传感器，所述气动差分测量传感器包括两组测量头，一组测量头测量掩模面位置，另一组测量头测量硅片面的位置，一气电转换器通过感测两组测量头测得的间距的不同而引起的气压值变化，转换为电信号经过信号处理后输送给整机控制系统，从而控制工件台的调整。

专利类型：发明专利

申请/专利号：CN201210594380.7

申请日期：2012-12-31

公开/公告号：CN103913953A

公开/公告日：2014-07-09

主分类号：G03F7/20(2006.01)I

申请/专利权人:上海微电子装备有限公司

发明/设计人:刁雷;陈飞彪

主申请人地址:201203 上海市浦东新区张江高科技园区张东路1525号

专利代理机构:北京连和连知识产权代理有限公司 11278

代理人:王光辉

国别省市代码:上海;31

权利要求：

一种调焦调平检测装置，用于放大倍率为1的光刻系统的调焦调平，包括光源系统，掩模板，掩模台，投影物镜，硅片，工件台，其特征在于，还包括一气动差分测量传感器，所述气动差分测量传感器包括两组测量头，第一组测量头用于测量掩模面位置，第二组测量头用于测量硅片面位置，一气电转换传感器通过感测两组测量头测得的间距的不同而引起的气压值变化，将所述气压值变化值转换为电信号，经过信号处理后输送给整机控制系统，从而控制工件台的调整。